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Communiqué de presse

ZEISS ORION NanoFab a reçu le prix de l'innovation 2013 Microscopy Today

ZEISS ORION NanoFab a reçu le prix de l'innovation 2013 Microscopy Today

La plate-forme à faisceaux d'ions multiples de ZEISS apporte de nouvelles solutions pour les défis à relever en nanofabrication

IÉNA/Allemagne, INDIANAPOLIS/États-Unis, 15 août 2013

ZEISS ORION NanoFab a reçu le prix de l'innovation 2013 Microscopy Today à l'occasion du salon Microscopy & Microanalysis à Indianapolis. Le magazine Microscopy Today remet ce prix chaque année aux techniques et aux instruments qui apportent une contribution majeure aux progrès dans le domaine de la microscopie.

ORION NanoFab est un outil de nanofabrication qui intègre des faisceaux d'ions d'hélium, de néon et de gallium sur une plate-forme unique. Les faisceaux d'ions d'hélium et de néon se basent sur la technologie de la source d'ions à champ de gaz (GFIS). Le même instrument produit également un faisceau d'ions focalisé (FIB) traditionnel au gallium conçu pour l'enlèvement en grands volumes de matière et la création de prototypes de structures qui ne sont pas affectés par l'implantation de gallium. "ORION NanoFab est une plate-forme à vrai faisceaux d'ions multiples qui permet aux utilisateurs de choisir entre trois faisceaux d'ions (hélium, néon et gallium), en fonction de l'application en présence. Nous sommes remercions Microscopy Today pour la distinction qui a été accordée au produit", a déclaré le Dr. Mohan Ananth, Directeur de la division Product Management pour la microscopie ionique chez ZEISS.

Pour les applications plus récentes où il faut pouvoir intervenir sur des fonctionnalités de moins de 10 nm ou encore où l'implantation du gallium pose un problème, les utilisateurs peuvent opter pour les faisceaux d'ions de néon ou d'hélium dans ORION NanoFab. Lorsque la nanofabrication est terminée, les images des échantillons peuvent être acquises en haute résolution dans la même machine sans qu'il soit nécessaire d'en sortir l'échantillon. ORION NanoFab permet aux chercheurs et aux entreprises de créer des prototypes en moins d'étapes et sans contamination en utilisant des faisceaux d'ions de néon et d'hélium. Des résultats ont été démontrés pour les applications suivantes : nanopores pour des applications de bioanalyse, création de motif de nanoruban de graphène, imagerie de schiste et de charbon pour l'extraction de pétrole et de gaz, lithographie par faisceaux d'ions, dispositifs plasmoniques et rectifications de circuit semiconducteur.